Einen weiteren Meilenstein bei der Chip-Herstellungs-Technologie stellt Intel diese Woche vor. In einer Chip-Fabrik in Hillsboro im US-Bundesstaat Oregon hat Intel das erste Photolithographie-Gerät installiert, das mit extremem UV-Licht arbeitet. EUV Lithographie "zeichnet" Linien auf Silizium Wafer, aus denen dann Schaltkreise werden. Daraus wird ein komplett neues Fertigungsverfahren entstehen, auf das aber erst 2009 ganz umgestiegen wird. Derzeit fertigt Intel noch Chips mit Dimensionen im Bereich von 90 Nanometer. Die EUV Litho-Technik wird Abmessungen von 32 Nanometer ermöglichen. Obwohl Intel früh in die EUV Technologie einsteigt, ist man wahrscheinlich nicht alleine auf dem Sektor. Denn AMD, IBM, Infineon, Micron, Motorola und weitere springen wohl auch auf den EUV-Zug auf. (pol)

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